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EDS（能譜分析）在掃描電鏡中的作用

EDS（能譜分析）是一種在掃描電鏡中常用的分析技術(shù)，它的主要作用是通過(guò)檢測(cè)樣品產(chǎn)生的X射線來(lái)進(jìn)行元素分析。

掃描電鏡中的低真空模式是一種操作模式，通常用于特定樣品或情況下，具有一些特定的作用和優(yōu)勢(shì)：

掃描電鏡在材料疲勞和斷裂分析中發(fā)揮了關(guān)鍵作用。

在掃描電鏡（SEM）中實(shí)現(xiàn)高分辨率的斷層和晶體缺陷檢測(cè)通常需要使用一些技術(shù)和儀器。

9月22日~24日，由中科院物理所表面物理國(guó)家實(shí)驗(yàn)室、澤攸科技、松山湖材料實(shí)驗(yàn)室聯(lián)合舉辦的“2023原位電鏡技術(shù)與應(yīng)用研討會(huì)暨澤攸科技用戶(hù)交流會(huì)”在廣東惠州成功舉辦。

掃描電鏡中的電子束與樣品相互作用并產(chǎn)生圖像的過(guò)程涉及到多種物理和電子學(xué)原理。

掃描電鏡中的冷陰極和熱陰極是產(chǎn)生電子束的兩種不同方式，它們之間有以下主要區(qū)別：

臺(tái)式掃描電鏡的數(shù)據(jù)導(dǎo)出和圖像處理方法通常包括以下步驟：